1 反滲透膜元(yuan)件(jian)的污染與清(qing)洗

在(zai)正常運行一段時間后，反滲透膜(mo)元(yuan)件會受到給(gei)水中可能存在(zai)的懸浮物(wu)(wu)(wu)或(huo)難溶鹽的污(wu)染(ran)，這些污(wu)染(ran)中常見(jian)的是碳酸(suan)鈣沉(chen)(chen)淀、硫酸(suan)鈣沉(chen)(chen)淀、金(jin)屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物(wu)(wu)(wu)沉(chen)(chen)淀、硅(gui)沉(chen)(chen)積物(wu)(wu)(wu)、無(wu)機(ji)(ji)(ji)或(huo)有機(ji)(ji)(ji)沉(chen)(chen)積混(hun)合(he)物(wu)(wu)(wu)、NOM天然有機(ji)(ji)(ji)物(wu)(wu)(wu)質(zhi)、合(he)成有機(ji)(ji)(ji)物(wu)(wu)(wu)(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合(he)電(dian)解質(zhi))、微生(sheng)物(wu)(wu)(wu) (藻類、霉菌、真菌)等污(wu)染(ran)。

污(wu)染(ran)(ran)性質和(he)污(wu)染(ran)(ran)速度(du)取決于各種因素，如給水水質和(he)系統回收率。通常污(wu)染(ran)(ran)是漸進(jin)發展的(de)，如不盡早控(kong)制(zhi)，污(wu)染(ran)(ran)將(jiang)會在相對較(jiao)短的(de)時(shi)間內損壞膜(mo)元件(jian)。當(dang)膜(mo)元件(jian)確證已被污(wu)染(ran)(ran)，或是在長期(qi)停機之前，或是作(zuo)為定(ding)期(qi)日常維護，建(jian)議對膜(mo)元件(jian)進(jin)行清(qing)洗(xi)。

當(dang)反滲(shen)透系統（或裝(zhuang)置）出現(xian)以下(xia)癥狀(zhuang)時(shi)，需要進(jin)行化學(xue)清洗或物理沖洗：

在正常給(gei)水壓力下，產水量較正常值下降10～15%；

為(wei)維持(chi)正(zheng)(zheng)常的(de)產水量(liang)，經溫(wen)度校正(zheng)(zheng)后(hou)的(de)給水壓力增加10～15%；

產水水質(zhi)降低(di)10～15%，透鹽率增加(jia)10～15%；

給水壓力(li)增加10～15%；

系統各段之間壓(ya)差明(ming)顯增加。

保持穩定(ding)的運(yun)行(xing)(xing)(xing)參(can)數(shu)主要是(shi)指產水流量、產水背壓、回收率、溫度及(ji)TDS。如(ru)果(guo)這些運(yun)行(xing)(xing)(xing)參(can)數(shu)起伏不定(ding)，建議(yi)檢查(cha)是(shi)否有污染(ran)發(fa)生，或者在關鍵(jian)運(yun)行(xing)(xing)(xing)參(can)數(shu)有變化的前提(ti)下(xia)反滲透的實際運(yun)行(xing)(xing)(xing)是(shi)否正常。

定時監測系統整體性能是確(que)認(ren)膜元件是否(fou)已發生(sheng)污染(ran)(ran)的基本(ben)方法。污染(ran)(ran)對膜元件的影響是漸進的，并且(qie)影響的程(cheng)度取(qu)決于污染(ran)(ran)的性質(zhi)。表(biao)1“反滲透膜污染(ran)(ran)特征(zheng)及處理方法”列出了常見(jian)的污染(ran)(ran)現象和相應處理方法。

已(yi)受污染的(de)反(fan)滲透膜的(de)清洗周(zhou)期(qi)根據現場實際情況而定(ding)。正常的(de)清洗周(zhou)期(qi)是(shi)每3-12個月一次。

當膜元件僅僅是發(fa)生了輕度污(wu)染時，重要的(de)是清洗膜元件。重度污(wu)染會因阻(zu)礙化學藥劑深(shen)入(ru)滲透至污(wu)染層，影響清洗效果。

清(qing)(qing)洗(xi)何(he)種(zhong)污染(ran)物以及如何(he)清(qing)(qing)洗(xi)要根(gen)據(ju)現場污染(ran)情況(kuang)而(er)進行。對于幾種(zhong)污染(ran)同時存在的復(fu)雜情況(kuang)，清(qing)(qing)洗(xi)方(fang)法是采(cai)用低PH和高(gao)PH的清(qing)(qing)洗(xi)液交替清(qing)(qing)洗(xi)（應先低PH后高(gao)PH值(zhi)清(qing)(qing)洗(xi)）。

2 污染情況分析

碳酸鈣垢：

碳酸(suan)(suan)鈣垢(gou)是一種礦物(wu)結垢(gou)。當阻(zu)垢(gou)劑/分散劑添加(jia)系(xi)統(tong)出(chu)(chu)(chu)現故障時(shi)，或是加(jia)酸(suan)(suan)pH調節系(xi)統(tong)出(chu)(chu)(chu)故障而引起給(gei)水pH增高(gao)時(shi)，碳酸(suan)(suan)鈣垢(gou)有(you)可(ke)能(neng)沉積(ji)出(chu)(chu)(chu)來。盡(jin)早地檢(jian)測碳酸(suan)(suan)鈣垢(gou)，對于防止膜(mo)層表面(mian)沉積(ji)的(de)晶體(ti)損傷膜(mo)元件是極為必要的(de)。早期檢(jian)測出(chu)(chu)(chu)的(de)碳酸(suan)(suan)鈣垢(gou)可(ke)由降低給(gei)水的(de)pH值至3~5，運行1~2小時(shi)的(de)方(fang)法去(qu)除。對于沉積(ji)時(shi)間長的(de)碳酸(suan)(suan)鈣垢(gou)，可(ke)用低pH值的(de)檸(ning)檬酸(suan)(suan)溶液清洗去(qu)除。

硫酸(suan)鈣、硫酸(suan)鋇、硫酸(suan)鍶垢：

硫(liu)(liu)酸(suan)鹽(yan)垢(gou)是比碳酸(suan)鈣垢(gou)硬很多的(de)礦物(wu)質垢(gou)，且(qie)不(bu)易去(qu)除。硫(liu)(liu)酸(suan)鹽(yan)垢(gou)可在(zai)阻(zu)垢(gou)劑/分(fen)散(san)劑添加系統出(chu)現故障或加硫(liu)(liu)酸(suan)調節pH時沉積出(chu)來(lai)。盡早地檢(jian)測(ce)硫(liu)(liu)酸(suan)鹽(yan)垢(gou)對于防(fang)止(zhi)(zhi)膜(mo)層表面沉積的(de)晶體(ti)(ti)損傷膜(mo)元件是極為必要(yao)的(de)。硫(liu)(liu)酸(suan)鋇和硫(liu)(liu)酸(suan)鍶垢(gou)較難去(qu)除，因為它(ta)們幾乎在(zai)所有的(de)清(qing)洗(xi)溶(rong)液中(zhong)難以溶(rong)解(jie)，所以，應加以特別(bie)的(de)注意以防(fang)止(zhi)(zhi)此類結垢(gou)的(de)生成。

金屬氧化(hua)物(wu)/氫氧化(hua)物(wu)污染：

典型(xing)的(de)金屬(shu)(shu)氧化(hua)物(wu)和金屬(shu)(shu)氫氧化(hua)物(wu)污染為(wei)鐵、鋅、錳(meng)(meng)、銅、鋁等。這種垢(gou)的(de)形成導因(yin)可能是裝(zhuang)置管路、容器(罐/槽(cao))的(de)腐蝕(shi)產物(wu)，或(huo)是空氣(qi)中(zhong)氧化(hua)的(de)金屬(shu)(shu)離子、氯(lv)、臭氧、鉀、高錳(meng)(meng)酸鹽(yan)，或(huo)是由在預處理(li)過濾系統(tong)中(zhong)使(shi)用鐵或(huo)鋁助凝(ning)劑所致。

聚合硅垢：

硅凝膠層垢(gou)由(you)溶解性硅的(de)(de)過(guo)飽和態及聚合(he)物所致(zhi)，且(qie)非(fei)常(chang)難(nan)(nan)以去除。需(xu)要注(zhu)意的(de)(de)是，這種(zhong)硅的(de)(de)污染(ran)不同于硅膠體(ti)物的(de)(de)污染(ran)。硅膠體(ti)物污染(ran)可(ke)(ke)能是由(you)與金屬氫氧(yang)化(hua)物締合(he)或(huo)是與有機物締合(he)而造成的(de)(de)。硅垢(gou)的(de)(de)去除很艱難(nan)(nan)，可(ke)(ke)采用傳(chuan)統的(de)(de)化(hua)學清洗方法。如果(guo)傳(chuan)統的(de)(de)方法不能解決(jue)這種(zhong)垢(gou)的(de)(de)去除問(wen)題，請(qing)與海德能公司技術(shu)部門聯系(xi)。現有的(de)(de)化(hua)學清洗藥劑，如氟化(hua)氫銨，已在(zai)一(yi)些項目上得到了成功的(de)(de)使用，但(dan)使用時須(xu)考慮此方法的(de)(de)操作危害和對設備的(de)(de)損壞，加以防護措施。